回到自己的基地，康驰从他的保险柜里掏出了那张尘封了有段时间的显卡，看着显卡的系统面板陷入了沉思。

14纳米的芯片制程，对于一年前的康驰来说，似乎是一件遥不可及的黑科技，

但经过了这一年多的发展，已经在国内科技领域建立了一定声望的他，却不禁开始思考到底有没有必要，去解析一台14纳米的光刻机技术了……

纵观整个华国的芯片产业，在国家的大力扶持和发展下，其实大部分的技术都已经攻克了。

上游的原材料有了大汉硅业，

中游的关键设备蚀刻机有中葳，

他们已经掌握了5纳米的蚀刻工艺，成了全球五大蚀刻机供应商之一，

甚至连全球最大的晶圆厂台机电，都在向中葳采购蚀刻机。

而在光刻领域，国内其实也在齐头并进，

比如吴利鸿那边，主要就在负责光刻胶的研发，目前也已经取得了一定的突破。

同时，信越化工等光刻胶材料商，在吸取了硅片失利的教训之后，已经转变了思路，不再像以前那样动不动就涨价限量把华国逼的太紧，转而开始了降价促销之路。

所以至少以目前的形势来看，光刻胶的研发已经不再紧迫紧迫了。

剩下的，就是人们最熟知的光刻机了。

光刻机这玩意在晶圆制造中，也确实是最难的，但在无数华国科研工作者的努力下，一座座的技术高峰都已经陆续被征服。

攻克euv光刻机，也只是时间早晚的问题。

作为全球唯一一家能生产euv极紫外光刻机的企业，阿斯麦ceo老温的说辞，更是华国光刻机研发进程最真实的写照。

一开始他说：“就算将光刻机的图纸拿给华国人，华国人也制造不出先进的光刻机。”

后来光刻机断供，华国开始全力研发光刻机并捷报频频。

这货又连忙改口说：“其实物理定律全世界都一样，华国人没道理造不出来。”

变脸之快，都可以去演川剧了……

同时为了保住在华国市场，他们还疯狂向华国出口duv光刻机。

综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的duv光刻机，而是7纳米以内高端制程的euv光刻机。

这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。

目前魔都微电子已经可以量产，90nm制程的duv光刻机了，

28nm的duv浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。

而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。

比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28nm的duv浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，

因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。

所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。

而以如今的康驰的成就，就算造出了evu光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……

想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！

通用经验-3196！

随着一道微光闪过，这张显卡的外形再次发生了变化。

9纳米？

这个制程就有点暧昧了啊……